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媒体:国产22纳米光刻机治不了中国的芯病

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发表于 2018-12-3 19:30:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

▲高博
11月29日,中科院研制的超分辨光刻装备通过验收。消息传着传着,就成了谣言《国产光刻机伟大突破,国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁,弯道超车》《厉害了我的国,新式光刻机将打破芯片荒》
笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会,写了报道,还算熟悉,无法苟同一些漫无边际的瞎扯。
中科院研制的这种光刻机不能(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率,用于一些特殊制造场景,很经济。
先解释下:光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案,都可以用光刻就像照相,图像投在感光底片上,蚀掉一部分。半个多世纪前,美国人用这个原理印刷电路,从而有了大规模集成电路芯片。
为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度,投影就模糊了。要清晰投影,线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。
但稳定的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛,配合的光学和机械部件又极端精密,所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,创造了一台卖一亿美金的神话。
十几年前,国际上开始对表面等离子体(surfaceplasma,SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究,是较早出成果的一个团队。所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者解释:拿一块金属片和非金属片亲密接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。
但这种电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至少以现在的技术不能。
验收会上也有记者问:该光刻设备能不能刻芯片,打破国外垄断?光电所专家回答说,用于芯片需要攻克一系列技术难题,距离还很遥远。
总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事,说前者弯道超车,就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。
各家媒体第一时间报出的信息,就我看到的还算中规中矩。但后来网媒添枝加叶,搞到离谱。有些传播者为吸引眼球、赚钱,最爱制造自嗨文和吓尿体。听到国产科技成就先往大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。
这种科技报道是满足虚荣心的伪新闻。行家听了眉头一紧,避之大吉。也难怪许多科学家怕上新闻。
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