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[内参消息] 国内首台集成电路ALD设备进驻上海集成电路研发中心

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发表于 2017-12-7 21:06:11 | 显示全部楼层 |阅读模式
2017年12月5日,由北方华创(002371)下属子公司北方华创(002371)微电子自主研发的国内首台12英寸原子层沉积(AtomicLayerDeposition,ALD)设备进驻上海集成电路研发中心。北方华创(002371)微电子为国产高端装备在先进集成电路芯片生产线的应用再添新秀。
此次,北方华创(002371)微电子PolarisA630ALD设备以参与公开竞标方式,成功进驻上海集成电路研发中心有限公司,同时中标的产品还有北方华创(002371)微电子集成电路AlPad工艺的eVictorA1030物理气相沉积系统。至此,北方华创(002371)微电子已有硅刻蚀机、单片退火设备、HardmaskPVD、AlPadPVD、单片清洗机、立式炉、ALD等集成电路设备应用于28-14纳米工艺制程,扩展了国产高端装备集成电路先进制程的配套应用范围。
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